巨匠都知道,我国的现不想法芯片事业不断都是比力落伍的 ,特意是理当在华为履历了“卡脖”使命之后 ,芯片的自力装备真错睁开更是成为了巨匠颇为关注的使命 。可是研制想要芯片事业更进一步 ,不断都有一个大山需要翻越,光刻那便是配置光刻机。
良多迷信家都在思考 ,部署我国是吴汉否理当自力研制光刻配置装备部署,但吴汉明院士却持招供态度!明院他感应 ,士展我国当初最主要的现不想法使命,不是理当研发光刻机 ,而是需要将留意力放在7nm破费线上,惟独先实现55nm的周全国产化,威力够处置中国芯的下场,打造残缺的半导体财富链。那末他的想法有错吗 ?
对于吴汉明院士的意见,良多网夷易近展现了不拥护见,并展现中国为甚么不能破费 EUV光刻机,难免偏激贬低自己了 。不外平心而论 ,自主研发 EUV光刻机的难度,着实太大了 ,可能五年、十年 、二十年都做不到,就算经由多年的自动,取患了乐成 ,但在那个时候 ,光刻机也成为了落伍的产物,将不任何意思 。
放眼天下 ,当初有能耐制作光刻的也就荷兰的 ASML,日本的 Nikon与 Canon,以及上海微电子 ,而荷兰的 ASML更是在 EUV光刻机规模占有着相对于的话语权,致使可能说是中高端规模的霸主